Przejdź do sekcji głównej Przejdź do głównego menu Przejdź do stopki
Czasopismo Etyka
  • Aktualny numer
  • Online first
  • Archiwum
  • Ogłoszenia
  • O czasopiśmie
    • O czasopiśmie
    • Przesyłanie tekstów
    • Zasady etyki publikacyjnej
    • Zespół redakcyjny
    • Polityka prywatności
    • Kontakt
Szukaj
  • Zarejestruj
  • Zaloguj
  1. Strona domowa /
  2. Archiwum /
  3. Tom 59 Nr 1 (2020)

Tom 59 Nr 1 (2020)

Na pomidorowoczerwonym tle niebieski tytuł "ETYKA", Instytut Filozofii Uniwersytetu Warszawskiego, tom 59 numer 1/2020, w tym numerze piszą: Bomastyk, Dąbrowski, Jaśtal, Kuźniar, Maciąg, Polak, Radzińska, Zając
Opublikowane: 2021-06-13

Pełny numer

  • PDF

Edytorial

  • Od Redakcji

    Joanna Andrusiewicz, Paweł Łuków, Jakub Zawiła-Niedźwiecki
    5-6
    • PDF

Artykuły

  • Metaetyka systemów społecznych. Teorioetyczne aspekty koncepcji N. Luhmanna

    Jacek Jaśtal
    7-25
    • PDF
  • The Oral history jako szczególny rodzaj dialogu. Etyczne aspekty nagrań ze świadkami historii.

    Anna Maciag
    26-48
    • PDF
  • Wprowadzenie do współczesnego ekspresywizmu: Allan Gibbard i emotywistyczne inspiracje

    Adrian Kuźniar
    49-65
    • PDF
  • Dojrzałość empatii wpływa na jakość solidarności

    Jowita Radzińska
    66-80
    • PDF
  • Emocje. W poszukiwaniu antyesencjalistycznego ujęcia

    Andrzej Dąbrowski
    81-100
    • PDF
  • Czy można być dobrym pesymistą?

    Marcin Polak
    101-114
    • PDF
  • Inność i obcość. Filozoficzna analiza figury uchodźcy

    Michał Bomastyk
    115-133
    • PDF
  • No Right To Mercy Making Sense of Arguments From Dignity in the Lethal Autonomous Weapons Debate

    Maciej Zając
    134-155
    • PDF

Język / Language

  • English
  • Język Polski

Informacje

  • dla czytelników
  • dla autorów
  • dla bibliotekarzy

Etyka

ISSN: 0014-2263

ISSN online: 2392-1161

Wydawca: Wydział Filozofii Uniwersytetu Warszawskiego

 

Uniwersytet Warszawski Logo

Open Journal Systems
Więcej informacji o systemie publikacji, Platformie i Obiegu OJS/PKP.